硅膠制品光鍍是指將金屬(或介質(zhì))膜(或多層金屬)鍍?cè)诠鈱W(xué)零件表面的工藝過(guò)程。光電器件表面鍍膜的目的是達(dá)到減少或增加光的反射性、分束性、分色性、濾光性和偏振性等。通常采用的鍍膜方法是真空鍍(物理鍍)和化學(xué)鍍。

光涂層原理：

負(fù)壓電鍍主要是指需要在較高真空下進(jìn)行電鍍，包括真空離子蒸發(fā)、磁控濺射、 MBE分子束外延、 PLD激光濺射沉積等，所以。蒸發(fā)器和濺射器通用。用鍍層材料制成基材，用鍍層材料作為靶材或藥材?；w和靶體在同一真空狀態(tài)下。

蒸發(fā)層通常是加熱的目標(biāo)，將表面成分蒸發(fā)成自由基或離子，然后通過(guò)合成沉積在基底上，膜層上。關(guān)于濺射涂層，很容易理解，目標(biāo)材料被電子或高能激光轟擊，表面成分以自由基或離子的形式濺射，最后沉積在基體表面，形成薄膜。

常用光學(xué)涂層材料有以下幾種：

無(wú)色晶系粉末，純度高，用它制備光學(xué)鍍膜，能提高透光性，不產(chǎn)生崩點(diǎn)。

高熔點(diǎn)、硬度、化學(xué)穩(wěn)定性良好的無(wú)色透明晶體。采用該工藝制備的優(yōu)質(zhì)Si02涂層，具有良好的蒸發(fā)狀態(tài)，無(wú)崩點(diǎn)。按用途可分為紫外線(xiàn)、紅外線(xiàn)和可見(jiàn)光用。

重質(zhì)結(jié)晶態(tài)，折射率高，耐高溫性好，化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定，純度高，可制得優(yōu)質(zhì)氧化鋯涂層，無(wú)崩點(diǎn)。